光刻机是制造高端芯片的必备设备,但受美国阻碍,中芯国际的最大短板在于缺少人才

日期:2020-06-20 10:11:01 来源:互联网 编辑:小优 阅读人数:537

前段时间,美国再次对华为进行制裁,此次美方要求所有使用美国半导体设备的企业在未获得美国许可前,都不能接下华为订单,这直接导致华为遭遇“断芯”危机,同时也让我国芯片产业的薄弱之处全面暴露出来。

光刻机是制造高端芯片的必备设备,但受美国阻碍,中芯国际的最大短板在于缺少人才(图1)

近几,中国企业年虽然在芯片行业取得不俗的成绩,但产品制造能力相比世界顶尖水准还是存在不小差距。以中芯国际为例,虽然是大陆地区实力最强的晶圆代工厂,但目前也只能实现14nm芯片量产,7nm工艺至今没有突破。当然,中芯国际之所以没有实现7nm高端芯片的制造,主要在于缺少高端光刻机

光刻机是制造高端芯片的必备设备,但受美国阻碍,中芯国际的最大短板在于缺少人才(图2)

光刻机是制造高端芯片的必备设备,而当前能够生产高端光刻机的厂商全球只有ASML一家。其实,中芯国际早在去年就向ASML订购了EVU光刻机,计划用于7nm芯片生产,但受美国阻碍,ASML光刻机至今也没有完成交付,这也是中芯国际芯片制造技术迟迟没有突破的重要因素

光刻机是制造高端芯片的必备设备,但受美国阻碍,中芯国际的最大短板在于缺少人才(图3)

不过,在笔者看来,光刻机并不是阻碍中芯国际生产7nm高端芯片的唯一阻碍,中芯国际的最大短板在于缺少人才。中芯国际到目前为止,人才骨干数量仅仅为三四百人,人数甚至不如阿里的一个技术研发部门,严重限制了中芯国际的技术研发速以及技术上限。

光刻机是制造高端芯片的必备设备,但受美国阻碍,中芯国际的最大短板在于缺少人才(图4)

人才这一概念虽然听起来十分抽象,但对于中芯国际而言,却很好理解。因为从某种意义上,中芯国际能够取得当前的成绩,也是因为中芯国际拥有一位芯片领域的大才—梁孟松

光刻机是制造高端芯片的必备设备,但受美国阻碍,中芯国际的最大短板在于缺少人才(图5)

梁孟松最先在台积电工作,本身是技术研发高层,后加入三星,并成功带领三星完成14nm工艺,帮助三星从台积电手中抢下台积电订单。 梁孟松在2017年加入中芯国际。仅三年时间,梁孟松就带领中芯国际完成12nm工艺技术突破。

光刻机是制造高端芯片的必备设备,但受美国阻碍,中芯国际的最大短板在于缺少人才(图6)

可以说梁孟松就是人才价值的最高体现,虽然不能奢望所有人才都是梁孟松,但这也从侧面反映出高端人才对于芯片行业的重要性,这部分人才往往可以凭借一己之力帮助公司实现大跨步发展。

光刻机是制造高端芯片的必备设备,但受美国阻碍,中芯国际的最大短板在于缺少人才(图7)

你对中芯国际未来发展前景有何看法,你认为中芯国际在日后会反超台积电、三星吗?

文/JING 审核/子扬 校正/知秋

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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