中国在半导体领域刚挖的一个宝藏,却又遭到欧美国家的掩埋,一旦成功实现了技术突破

日期:2020-08-02 20:36:01 来源:互联网 编辑:小优 阅读人数:125

今天跟大家聊一聊:中国在半导体领域刚挖的一个“宝藏”却又遭到欧美国家的,中国在芯片领域真的就没有办法实现突破了吗?

中国在半导体领域刚挖的一个宝藏,却又遭到欧美国家的掩埋,一旦成功实现了技术突破(图1)

近年来中国的科技也迎来了突飞猛进的发展,特别体现在半导体领域,经过多年的研发,在很多的技术上我们都逐渐实现赶超。但是对于一些顶尖的技术,西方国家一直对我们严防死守,这也导致了我们在半导体领域也遭受到了前所未有的,从华为的事件中,也让国内的企业深刻体会到了“靠人不如靠己,自主创新才能真正打破他们的垄断。”

中国在半导体领域刚挖的一个宝藏,却又遭到欧美国家的掩埋,一旦成功实现了技术突破(图2)

中国在芯片领域存在着很大的劣势,在美国对华为实行芯片禁令之后,华为一下子陷入了困境,这也让中国认清了我们在半导体领域的不足。而在芯片领域,我们最为缺乏的技术就是光刻机了,荷兰的ASML公司相关负责人就曾经说过这样一句话:“就算把光刻机制造的图纸直接给我们,我们也制造不出最为尖端的光刻机。”

中国在半导体领域刚挖的一个宝藏,却又遭到欧美国家的掩埋,一旦成功实现了技术突破(图3)

事实上也的确是这样,光刻机的生产制造是目前工业时代最为复杂的存在,目前没有任何一个国家能够单独制造出尖端的光刻机,我们也应该认清自己的不足。对我们的蔑视,其实对我们来说也并不算坏处,这也能够更加激起我们研发人员的斗志,争取早日研发出国产光刻机,这样就不用处处受限于他人了。

而在此前,上海微电子就在国产光刻机上传来了好,作为国内半导体巨头,上海微电子直接把此前90nm的工艺越级到了28nm,而这台28nm的光刻机,最终将在2021年完成交付,虽然和西方国家相比,我们在技术上和他们还差了一大截,但对于中国来说却是一个天大的好,也就意味着我们在不久的将来,将打破西方国家对于光刻机长达几十年的封锁,一旦成功实现了技术突破,那么整个中国的工业运转也将由我们来重新制定。

中国在半导体领域刚挖的一个宝藏,却又遭到欧美国家的掩埋,一旦成功实现了技术突破(图4)

而根据相关称,目前芯片制造领域也已经接近摩尔定律,最为精密的芯片制造工艺为2nm,以目前的技术的话,根本就没有办法实现突破,也就意味着我们有足够长的时间进行研发。

中国在半导体领域刚挖的一个宝藏,却又遭到欧美国家的掩埋,一旦成功实现了技术突破(图5)

目前国家也在加大力度对于半导体领域的投资,对光刻机这一大“宝藏”我们也下定决心进行深挖,在看到我们所取得的成绩之后,美国又开始蠢蠢欲动了,又想着对我们怎么进行封锁,然而值得一提的是,我们的光刻机所采用的技术都是自主研发创新的,他们根本就无从下手。

但是没想到的是,美国又开始耍起了手段,竟然让荷兰ASML公司对28nm的光刻机进行低价处理,而他们这么做的目的,就是在上海微电子28nm光刻机还没正式商用之前,率先抢占国内市场,而上海微电子的光刻机实现整机出库至少要等到明年,如果我真的被他们得逞的话,那到时候上海微电子的努力或许就白费了。

中国在半导体领域刚挖的一个宝藏,却又遭到欧美国家的掩埋,一旦成功实现了技术突破(图6)

上海微电子目前已经投入了大量的研发资金,如果在最新的28nm光刻机投入市场之后,不能收回一定的成本的话,那么他们也将无力继续从事更为高端的研发。那么中国难得取得的突破,也将付之东流,这样也将极大打击到国内科研企业的信心。

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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当然在半导体制造设备领域,我国已经在不少领域取得了技术突破,例如中微半导体所生产的国产蚀刻机,就已经成功跻身于国际领先水准,达到了顶级的5nm工艺制程,不仅仅实现了对欧美产品的替代,同时还得到了台积电...

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