中国芯或将再上一层楼,也就是没有ASML的光刻机,中芯国际并不是直接造出7纳米的芯片

日期:2020-08-06 08:21:08 来源:互联网 编辑:小优 阅读人数:317

大家都知道,在全球市场上,具备生产EUV光刻机技术的企业,只有荷兰的ASML,根据其最新发布的数据显示,目前已经在全球市场出货了57台EUV光刻机了,这直接向全球市场彰显了自己实力的强大。

中国芯或将再上一层楼,也就是没有ASML的光刻机,中芯国际并不是直接造出7纳米的芯片(图1)

同时也是向外发出一个信号,即便出台了如此多的光刻机,也没有办法把中芯国际两年前下单的光刻机发货过来。据了解,EUV光刻机是指使用13.5纳米的紫光线光源,生产7纳米或以下工艺制程芯片的机器,全球任何一家芯片制造商都需要从ASML购买,而且别无选择。

中国芯或将再上一层楼,也就是没有ASML的光刻机,中芯国际并不是直接造出7纳米的芯片(图2)

根据相关,这57台光刻机全部发货给三星、台积电和英特尔了,受到美国技术的影响,国内任何一家芯片制造商,想要获得ASML的光刻机都是难上加难的事情,现在“中国芯”已经进入到7纳米阶段了,但是没有光刻机就没有办法实现突破。

中国芯或将再上一层楼,也就是没有ASML的光刻机,中芯国际并不是直接造出7纳米的芯片(图3)

但是中芯国际突然宣布,“中国芯”或将再上一层楼,也就是没有ASML的光刻机,也能造出7纳米芯片来,这是真的还是假的?实际上,中芯国际并不是直接造出7纳米的芯片,而是采用了N+1技术。

中国芯或将再上一层楼,也就是没有ASML的光刻机,中芯国际并不是直接造出7纳米的芯片(图4)

相较于14纳米芯片来说,性能提升了20%,但是功耗却降低了57%,逻辑面积缩小了63%,SoC面积也减少了55%,按照这个逻辑看,和台积电生产的7纳米芯片差别确实不大,但是频率会大大降低,所以并不会强于台积电生产的7纳米,仅仅相当于台积电的10纳米工艺。

中国芯或将再上一层楼,也就是没有ASML的光刻机,中芯国际并不是直接造出7纳米的芯片(图5)

所以话说回来,中国芯片制造商想要突破7纳米工艺,还是需要光刻机加持的,不然美国就不会大费周折的来打压华为了。但这并不代表没有任何解决的办法,只是相较于真正的工艺技术会有所差距罢了。

中国芯或将再上一层楼,也就是没有ASML的光刻机,中芯国际并不是直接造出7纳米的芯片(图6)

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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