EUV光刻机并没有投入使用,中芯国际也能实现7nm芯片量产,因此台积电成为中芯国际最好的榜样

日期:2020-09-07 17:30:35 来源:互联网 编辑:小优 阅读人数:381

最近三四个月,美国对中国实施了严格的芯片技术封锁措施,华为成为最大受害者,华为不仅无法让代工厂为其代工处理器,而且还因为美国新规,失去了自由采购成品芯片的资格。不过,这也为国内芯片产业发展提供了一个良机。目前可以看到,中芯国际、紫光展锐等公司被寄予厚望。

EUV光刻机并没有投入使用,中芯国际也能实现7nm芯片量产,因此台积电成为中芯国际最好的榜样(图1)

特别是中芯国际,在梁孟松博士加入后,中芯国际仅用两年时间便实现14nm技术的突破。如今虽然因为没有EUV光刻机,不得不放慢研发进度,但中芯国际前进的脚步一直都没有停下。根据最新,即便没有EUV光刻机,中芯国际也能实现7nm芯片量产,事实上,台积电实现7nm技术也没用到EUV光刻机,因此台积电成为中芯国际最好的榜样。

EUV光刻机并没有投入使用,中芯国际也能实现7nm芯片量产,因此台积电成为中芯国际最好的榜样(图2)

虽然台积电并不是没有EUV光刻机,但台积电生产第一代7nm工艺处理器时,EUV光刻机并没有投入使用。事实也证明没有EUV光刻机加持的7nm芯片,综合实力相比使用EUV光刻机打造的第二代7nm芯片,还是有明显差别。目前来看,中芯国际放出的N+1技术标准,各项数据都与台积电第一代7nm芯片十分接近。

EUV光刻机并没有投入使用,中芯国际也能实现7nm芯片量产,因此台积电成为中芯国际最好的榜样(图3)

根据中芯国际介绍,中芯国际的N+1工艺通过DUV光刻机,配合其他设备以及程序一同实现,缺点是整套设备造价相对高,工作效率则偏低。需要注意的是,中芯国际并没有公开对外表示,N+1工艺就是7nm工艺,虽然该工艺各项指标的确是达到7nm工艺最低标准。

EUV光刻机并没有投入使用,中芯国际也能实现7nm芯片量产,因此台积电成为中芯国际最好的榜样(图4)

另外,结合媒体,台积电N+1工艺并不是台积电的真正王牌,此外,台积电还有一个代号为N+2工艺没有公布。梁孟松博士此前曾表示,N+1工艺是出于对综合成本的考量,而N+2则相对更注重性能。如此来看 ,N+2工艺或许可以达到主流7nm工艺标准。

EUV光刻机并没有投入使用,中芯国际也能实现7nm芯片量产,因此台积电成为中芯国际最好的榜样(图5)

目前中芯国际N+1工艺已经完成研发,年底会进行小规模量产,明年或将批量上市。至于N+2工艺,应该会在明年年底或2022年年初上市。虽然在那时,三星和台积电大概率已经实现3nm技术普及,但对于中芯国际而言,N+1和N+2工艺的实现,还是能大幅提升中芯国际在芯片市场上的影响力。

EUV光刻机并没有投入使用,中芯国际也能实现7nm芯片量产,因此台积电成为中芯国际最好的榜样(图6)

而且,N+1和N+2工艺最重要的意义在于为国内科技厂商提供一条保障芯片生产的后路。对于中芯国际未来在市场的表现,你怎么看?

文/JING 审核/子扬 校正/知秋

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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