2021年中芯国际能造出5nm芯片吗?

日期:2021-02-21 16:46:33 来源:互联网 编辑:小优 阅读人数:486

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2021年中芯国际能造出5nm芯片吗?(图1)

前不久中芯国际内部产生了一些矛盾,CEO梁孟松请辞,在他的辞职信中介绍了中芯国际芯片工艺的现状。

当前中芯国际28nm、14nm、12nm、n+1等技术已经进入到规模量产,先来解释一下这个n+1的问题,n+1趋近于7nm工艺制程,但是性能上并不等同于7nm工艺制程,可以看做是一个低配版的7nm工艺制程(n+1是中芯国际为了应对没有EUV光刻机而出来的技术)7nm工艺制程已经完成,今年四月就会进入风险量产,至于5nm和3那么较为关键,需要等待EUV光刻机才能够全面进入阶段。

2021年中芯国际能造出5nm芯片吗?(图2)

那么,2021年EUV光刻机能否到货呢?

鉴于当前的实际环境,到货的可能性微乎其微。并不是荷兰ASML公司没有生产完这台光刻机,也不是ASML公司不想将这台光刻机出售给中国,荷兰ASML在公开场合也多次发表声明,一个是向中国出口光刻机保持开放态度,一个是中国不会也无法复制EUV光刻机,无论从哪个方面来看出售给中国EUV光刻机都不会有风险。无奈美国从中作梗,荷兰迟迟不肯下发这台光刻机的出货许可证。

如果EUV光刻机无法到货,按照中芯国际当前的技术实力来看,只能够代工趋近于7nm工艺制程的n+1芯片。

2021年中芯国际能造出5nm芯片吗?(图3)

即便中芯国际能够造出5nm工艺制程的芯片,能否为华为代工依然身不由己!

为了规避手机芯片所带来的风险,华为已经展开了挖矿养猪的“南泥湾”计划,通过优势领域来弥补短板,华为离开了手机也能活!

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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